La 7ème réunion du groupe Dépôts de RENATECH a eu lieu au laboratoire ICB à Dijon les 11 et 12 octobre 2023. Le comité d’organisation était composé de Xavier LAFOSSE (C2N), Antonin MOREAU (Institut Fresnel), Aurore Andrieux (ICB), Isabelle Gallet (ICB) et Cloë Vautrin (ICB)
41 participants ont assisté à 12 présentations orales et ont échangé sur des sujets liés aux dépôts : les TCO (oxydes conducteurs transparents : ITO, ZnO dopé, etc…), les nouveaux matériaux, les nouvelles techniques, la caractérisation des dépôts, l’adhésion des couches minces déposées, 2 présentations techniques/scientifiques d’industriel (ApSys et EXAIL), l’outil informatique Digiclear, une table ronde de clôture. Une session de posters a été organisée où les participants ont présenté leur centrale/plateforme. Une visite des plateformes du laboratoire (ARCEN-CARNOT, CALHIPSO, SMARTLIGHT) était organisée.
La mise en réseau est une activité importante de Renatech et diverses actions ont été mises en œuvre pour promouvoir la communication et la coopération entre les membres de Renatech. Les membres du personnel technique ont souvent l’occasion de se rendre visite (au cas par cas), de travailler sur des développements conjoints de processus spécifiques qui ne sont pas disponibles dans leur propre salle blanche. Ces échanges techniques ont été étendus par la création de plusieurs « groupes d’experts techniques » qui rassemblent le personnel des salles blanches dans les principales catégories de procédés de salles blanches (lithographie, dépôt, gravure et croissance épitaxiale). Ces groupes se réunissent régulièrement (environ une fois par an) pour échanger sur les nouvelles technologies et les nouveaux équipements disponibles. Ils favorisent le partage.